小田 俊理

プロフィール
1979-1986 東京工業大学工学部助手
1986-1995 東京工業大学工学部 助教授
1995-2016 東京工業大学 量子効果エレクトロニクス研究センター教授
2016- 東京工業大学科学技術創成研究院教授

専門分野
電子デバイス、 ナノエレクトロニクス

未来産業技術研究所(IIR, Tokyo Tech)

 http://odalab.pe.titech.ac.jp/
soda@pe.titech.ac.jp

グループ名:材料・デバイス研究国際ハブグループ

研究ハイライト

  • VHFプラズマCVD法によるナノ結晶シリコンで単電子トランジスタを作製(2000.07)
  • 多重結合シリコン量子ドットでスピンブロッケードを観測(2012.09)

ニュース

  • 2017年1月
    シリコン電界効果トランジスタ界面の電子共鳴コヒーレント制御に関する論文がNature Materialsに掲載されました。

主な受賞歴

  • 1983年
    手島研究賞
  • 1995年
    ISTEC and MRS Performance Awards
  • 2002年
    藤野研究賞
  • 2006年
    IEEE Electron Devices Society Distinguished Lecturer
  • 2007年
    応用物理学会フェロー
  • 2012年
    IEEEフェロー
  • 2016年
    応用物理学会シリコンテクノロジー分科会論文賞

主な論文

  • J. O. Tenorio-Pearl, E. D. Herbschleb, S. Fleming, C. Creatore, S. Oda, W. I. Milne & A. W. Chin, Observation and coherent control of interface-induced electronic resonances in a field-effect transistor, Nature Materials, 16, 208-213, 2017.
  • G. Yamahata, T. Kodera, H. O. H. Churchill, K. Uchida, C. M. Marcus, and S. Oda, Magnetic field dependence of Pauli spin blockade: A window into the sources of spin relaxation in silicon quantum dots, Physical Review B, 86, 115322 (5 pages), 2012.
  • B. Pruvost,K. Uchida, H. Mizuta,S. Oda, Design of New Logic Architectures utilizing Optimized Suspended-Gate Single-Electron Transistors, IEEE Transactions on Nanotechnology, 9 (4), 504–512, 2010
  • K. Nishiguchi and S. Oda, Ballistic transport in silicon vertical transistors, Journal of Applied Physics, 92(3), 1399-1405, 2002