平松 秀典

プロフィール
2004 – 2010 科学技術振興機構 研究員
2010東京工業大学 フロンティア研究機構 特任准教授
2011 – 2016東京工業大学 応用セラミックス研究所 准教授
2016 – 東京工業大学 科学技術創成研究院 准教授

専門分野
機能材料探索/光・電子物性/半導体、超伝導

フロンティア材料研究所(IIR, Tokyo Tech)

 http://www.msl.titech.ac.jp/~hosono/
h-hirama@lucid.msl.titech.ac.jp

グループ名:材料・デバイス研究国際ハブグループ

研究ハイライト

  • マテリアルズ・インフォマティクス(東工大 大場研)との融合により、高圧合成法を用いることによって、赤色発光する新しい窒化物半導体を発見(2016.06)
  • 絶縁性FeSeを用いた電気二重層トランジスタにおいてバルクより4倍高い臨界温度の超伝導を観察(2016.04)

ニュース

  • 2016年6月
    新しい3元系窒化物半導体の発見に関する論文がNature Commun.に掲載され、化学工業日報、日刊工業新聞、日経産業新聞等の計10誌で紹介されました。
  • 2016年4月
    FeSe薄膜を使った電気二重層トランジスタの超伝導に関する論文がProc. Natl. Acad. Sci. USAに掲載され,日経産業新聞、化学工業日報、科学新聞、Chem-Station スポットライトリサーチで紹介されました。

主な受賞歴

  • 第15回(2003年秋季)応用物理学会 講演奨励賞
  • 第21回(平成16年度)井上研究奨励賞(財団法人 井上科学振興財団)
  • 第31回(2009年度)応用物理学会 論文賞
  • 第16回 超伝導科学技術賞(社団法人 未踏科学技術協会 超伝導科学技術研究会)
  • 平成24年度 東工大挑戦的研究賞(学長特別賞)
  • 平成25年度 科学技術分野の文部科学大臣表彰「若手科学者賞」

主な論文

  • Y. Hinuma, T. Hatakeyama, Y. Kumagai, L. A. Burton, H. Sato, Y. Muraba, S. Iimura, H. Hiramatsu, I. Tanaka, H. Hosono, and F. Oba “Discovery of earth-abundant nitride semiconductors by computational screening and high-pressure synthesis” Nat. Commun., vol. 7, pp. 11962-1 – 11962-10 (2016).
  • K. Hanzawa, H. Sato, H. Hiramatsu, T. Kamiya, and H. Hosono “Electric field-induced superconducting transition of insulating FeSe thin film at 35 K” Proc. Natl. Acad. Sci. USA, vol. 113, pp. 3986 – 3990 (2016).
  • H. Hiramatsu, T. Kamiya, T. Tohei, E. Ikenaga, T. Mizoguchi, Y. Ikuhara, K. Kobayashi, and H. Hosono “Origins of Hole Doping and Relevant Optoelectronic Properties of Wide Gap p-Type Semiconductor, LaCuOSe” J. Am. Chem. Soc., vol. 132, pp. 15060 – 15067 (2010).